GEW, der in Großbritannien ansässige Hersteller von UV-Härtungssystemen, hat die Einführung seiner neuesten Leistungs- und Steuerungsplattform EOS angekündigt, die diese Woche auf der LOUPE Americas in Chicago vorgestellt wird.
Produktionsvorteile
EOS löst die bewährte RHINO Power-Infrastruktur von GEW ab und bietet Anwendern eine Vielzahl von Produktionsvorteilen. Eine vollständige Neugestaltung der Netzteile, der Steuerelektronik, der Verkabelung und der gesamten Steuerungssoftware für UV-Systeme sorgt für Effizienz und Modularität, während die Eigenfertigung Qualitätskontrolle und Fachkompetenz gewährleistet. Darüber hinaus ermöglichen die intelligenten, serialisierten Lampenköpfe deutlich verbesserte Telemetrie- und OEM-Integrationsmöglichkeiten sowie Wartungsfreundlichkeit und Unterstützung moderner Kommunikationsprotokolle.
Mit EOS gehören neue Berichtsfunktionen wie Betriebsstundenzähler und Reflektorzähler ebenso zur Standardausstattung wie erweiterte Fernüberwachungsfunktionen. Die EOS-Plattform ist weiterhin vollständig kompatibel mit der patentierten, austauschbaren ArcLED-Technologie von GEW und führt eine End-to-End-Verschlüsselung des gesamten Kommunikationsverkehrs ein.
Robert Rae, Geschäftsführer bei GEW, kommentiert: „EOS wird die Funktionalität, Leistungsfähigkeit und Integrationsmöglichkeiten unserer UV-Härtungssysteme grundlegend verändern. Es sorgt für eine nahtlosere und ergonomischere Bedienererfahrung. Seine hervorragende Konnektivität ermöglicht die Integration einer Vielzahl von Steuerungs- und E/A-Optionen, wodurch mehr Telemetriedaten für verbesserte Analysen generiert werden.“
Präzisionssteuerungssystem DoseGuard
Neben EOS wird GEW sein Präzisionssteuerungssystem DoseGuard sowie seinen innovativen neuen Luftstrahlkühler vorstellen. Rae fasst zusammen: „Die vielfältige Palette an wichtigen Produktinnovationen, die wir auf der LOUPE Americas präsentieren, macht einen Besuch an unserem Stand zu einem absoluten Muss für jeden Besucher.“
GEW | Stand 3500, LOUPE Americas, Rosemont, Chicago | 15.–17. September 2026